據(jù)媒體報(bào)道，2018年12月，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。5納米，相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺(tái)積電計(jì)劃2019年進(jìn)行5納米制程試產(chǎn)，預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)?！雽?dǎo)體器件工藝制程從14納米微縮到5納，等離子蝕刻步驟會(huì)增加三倍刻蝕機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一，曾一度是發(fā)達(dá)國家的出口管制產(chǎn)品。中微半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)始人倪圖強(qiáng)表示，中微與科林研發(fā)(Lam Research)、應(yīng)用材料(Applied Materials)、東京威力科創(chuàng)(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企業(yè)，組成了國際第一梯隊(duì)，為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)。中微半導(dǎo)體如今通過臺(tái)積電驗(yàn)證的5納米刻蝕機(jī)，預(yù)計(jì)能獲得比7納米更大的市場份額。中科院SP超分辨光刻機(jī)提問者所說的中國光刻機(jī)達(dá)到世界先進(jìn)水平，應(yīng)該是指2018年11月29日通過驗(yàn)收的，由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所主導(dǎo)、經(jīng)過近七年艱苦攻關(guān)研制的“超分辨光刻裝備”項(xiàng)目。該項(xiàng)目下研制的這臺(tái)光刻機(jī)是“世界上首臺(tái)分辨力最高的紫外(即22納米@365納米)超分辨光刻裝備”。這是一種表面等離子體（surfaceplasma，SP）超分辨光刻裝備。▲中科院研制成功并通過驗(yàn)收的SP光刻機(jī)該光刻機(jī)在365納米光源波長下，單次曝光最高線寬分辨力達(dá)到22納米。結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10nm級(jí)別的芯片......中國的刻蝕機(jī)的確是達(dá)到了世界先進(jìn)水平，光刻機(jī)還早，而且就算是這兩樣都世界先進(jìn)了，不代表中國芯片業(yè)的前路就不艱辛了。目前中國的刻蝕機(jī)的確領(lǐng)先，5納米等離子體刻蝕機(jī)已經(jīng)通過臺(tái)積電驗(yàn)證；但是光刻機(jī)就差多了，之前新聞報(bào)道中提到的“中科院SP超分辨光刻機(jī)”其實(shí)最多只能算是一個(gè)“原型機(jī)”，和ASML的光刻機(jī)不能相提并論，也不能用來制造芯片，還需要攻克一系列的技術(shù)難題退一步講，就算是中國的光刻機(jī)與刻蝕機(jī)都達(dá)到世界領(lǐng)先就解決問題了么？ASML的EUV光刻機(jī)我們已經(jīng)下單等待交貨了，是不是到貨以后中國就可以生產(chǎn)7nm甚至是5nm的芯片了不要把問題想簡單了，以為芯片也只有光刻機(jī)和刻蝕機(jī)。芯片制造的技術(shù)、經(jīng)驗(yàn)、工藝以及人才是一個(gè)系統(tǒng)性的工程，臺(tái)積電也不是一天建成的，有了光刻機(jī)也不代表我們就能造出最頂尖的芯片。

謝謝您的問題。國產(chǎn)蝕刻機(jī)處于全球領(lǐng)先水平，但基本是中微半導(dǎo)體公司一枝獨(dú)秀。

刻蝕機(jī)技術(shù)領(lǐng)先。目前總體看，中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕機(jī)、硅通孔刻蝕機(jī)處于全球前三名。中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕機(jī)已經(jīng)被臺(tái)積電納入7nm、10nm制程生產(chǎn)線?？涛g機(jī)制造工藝可以做到5nm，被臺(tái)積電驗(yàn)證通過，比7nm有更大市場份額。中芯國際一半的刻蝕機(jī)都來自于中微半導(dǎo)體。

起點(diǎn)就不一樣。中微半導(dǎo)體是尹志堯、杜志游、倪圖強(qiáng)、等40多位半導(dǎo)體設(shè)備專家創(chuàng)辦了中微公司。尹志堯之前在美國已經(jīng)從事20多年的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)，帶領(lǐng)科研團(tuán)隊(duì)，2004年創(chuàng)辦中微半導(dǎo)體，這些人覆蓋了多國別、多專業(yè)，是技術(shù)研發(fā)致勝的關(guān)鍵，團(tuán)隊(duì)已經(jīng)申請(qǐng)了1000多項(xiàng)專利。當(dāng)時(shí)全球最先進(jìn)的制程是90納米，中微半導(dǎo)體起步就研發(fā)40納米刻蝕機(jī)，提前了至少兩代。

蝕刻機(jī)是孤軍深入。蝕刻機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備，雖然刻蝕機(jī)加工精度不斷提升，但是并不能意味我國芯片整體工藝制程大幅進(jìn)步，我們必須有清醒的認(rèn)識(shí)。

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